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PCB雙面曝光機

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單價: 面議
起訂: 1 1臺
供貨總量: 10 1臺
發貨期限: 自買家付款之日起 天內發貨
所在地:
有效期至: 長期有效
最后更新: 2021-04-22
瀏覽次數: 5485
詢價
公司基本資料信息
 
 
產品詳細說明
  • 產品型號:PCB雙面曝光機-3055
  • 產品規格:一、主要用途:  干膜、濕膜、內層雙面或單面曝
  • 原 產 地:
  • 適用范圍:
  • 詳細描述:一、主要用途:
      干膜、濕膜、內層雙面或單面曝光。

      二、主要系統:
      曝光控制、光源、冷卻、臺面真空、電控等。

      三、曝光控制:
      采用觸摸式控制,全數字化設定操作,能量控制精確。

      四、光源系統:
      常態點燈方式,并裝有動作靈巧的自動遮光器之設置。

      五、冷卻系統:
      光源冷卻,采用間接式水冷,冷卻方式以蒸餾水置于石英玻璃水套內,經板式熱交換器充分進行熱交換,使效率發揮致極點,曝光臺面采用強制氣冷方式,且可控制溫度。

      六、真空系統:
      采用MYLAR薄膜對玻璃配合真空系統之強大吸力,達到緊密配合之高效果。

      七、保護措施:
      漏電保護,緊急開關,異常訊息警報及顯示,水箱之水溫過高保護,冷卻異常自動熄滅,冷卻循環水壓力異常自動熄燈等。 

      八、技術參數: 項 目 規 格 項 目 規 格 
    電源 AC 3φ 380V 00A 50HZ 監控系統 自我診斷功能及異常訊息提示 
    光源系統 7KW鹵化金屬燈2支 曝光量控制 UV能量積算器 
    有效曝光面積 850mm×650mm 照度均勻性 85%以上 
    曝光框架 上層:MYLAR薄膜
    下層:強化玻璃 燈管壽命 800h,30mv/cm2±5% 
    冷卻水源 10噸之冷卻水塔,2-3kgf/cm2 真空裝置 干式真空泵浦,正常操作下真空壓力650mm/hg以上 
    臺面冷卻方式 氣冷式冷卻 機臺尺寸 2700mm×1400mm×1765mm 
    燈管冷卻方式 間接式水冷 重 量 約1000kg 
    控制方式 觸摸式人機介面 
  • 售后服務:
 
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